景德镇陶瓷大学机械电子工程学院教师个人信息表
姓名 |
曹利奥 |
性别 |
男 |
出生年月 |
1993.04 |
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专业技术职称 |
讲师 |
导师类别 |
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最后学历 (毕业院校) |
博士研究生 根特大学 |
最后学位 (毕业院校) |
博士 根特大学 |
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获聘招生学科 |
研究方向 |
原子层沉积 |
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联系电话 |
caoliao@jcu.edu.cn |
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个人简历 |
曹利奥,物理学博士,讲师。2024年12月毕业于比利时根特大学固态科学系,获博士学位。2021年12月至2022年12月,在上海海思技术有限公司从事集成电路先进工艺研发工作。主要研究方向包括原子层沉积技术、先进互连技术等。 |
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教学科研情况 |
担任课程:《电子元器件测试》《薄膜晶体管》《认识实习》 |
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主要科研项目: 1. 比利时FWO/欧盟M-ERA.NET, CALDERA – Cost-efficient Atomic Layer Deposition Processes for Large Area Coating Applications, 2016.06-2019.05. 结题. (主要参与) |
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主要获奖: |
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学术论文、论著: 【1】 Cao, LiAo, Felix Mattelaer, Timo Sajavaara, Jolien Dendooven, and Christophe Detavernier. "A liquid alkoxide precursor for the atomic layer deposition of aluminum oxide films." Journal of Vacuum Science & Technology A 38, no. 2 (2020). 【2】 Hashemi, Fatemeh SM, LiAo Cao, Felix Mattelaer, Timo Sajavaara, J. Ruud Van Ommen, and Christophe Detavernier. "Aluminum tri-isopropoxide as an alternative precursor for atomic layer deposition of aluminum oxide thin films." Journal of Vacuum Science & Technology A 37, no. 4 (2019). (共同一作) 【3】 Tai, Truong Ba, LiAo Cao, Felix Mattelaer, Geert Rampelberg, Fatemeh SM Hashemi, Jolien Dendooven, J. Ruud van Ommen, Christophe Detavernier, and Marie-Francoise Reyniers. "Atomic layer deposition of Al2O3 using aluminum triisopropoxide (ATIP): a combined experimental and theoretical study." The Journal of Physical Chemistry C 123, no. 1 (2018): 485-494. |
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更新日期:2025.09
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