曹利奥

时间:2025年09月11日      点击:[]

景德镇陶瓷大学机械电子工程学院教师个人信息表

姓名

曹利奥

性别

出生年月

1993.04


专业技术职称

讲师

导师类别


最后学历

(毕业院校)

博士研究生

根特大学

最后学位

(毕业院校)

博士

根特大学

获聘招生学科


研究方向

原子层沉积

联系电话


E-mail

caoliao@jcu.edu.cn

个人简历

曹利奥,物理学博士,讲师。202412月毕业于比利时根特大学固态科学系,获博士学位。202112月至202212月,在上海海思技术有限公司从事集成电路先进工艺研发工作。主要研究方向包括原子层沉积技术、先进互连技术等。

教学科研情况

担任课程:《电子元器件测试》《薄膜晶体管》《认识实习》

主要科研项目

1. 比利时FWO/欧盟M-ERA.NET, CALDERA Cost-efficient Atomic Layer Deposition Processes for Large Area Coating Applications, 2016.06-2019.05. 结题. (主要参与)

主要获奖:


学术论文、论著:

【1】 Cao, LiAo, Felix Mattelaer, Timo Sajavaara, Jolien Dendooven, and Christophe Detavernier. "A liquid alkoxide precursor for the atomic layer deposition of aluminum oxide films." Journal of Vacuum Science & Technology A 38, no. 2 (2020).

【2】 Hashemi, Fatemeh SM, LiAo Cao, Felix Mattelaer, Timo Sajavaara, J. Ruud Van Ommen, and Christophe Detavernier. "Aluminum tri-isopropoxide as an alternative precursor for atomic layer deposition of aluminum oxide thin films." Journal of Vacuum Science & Technology A 37, no. 4 (2019). (共同一作)

【3】 Tai, Truong Ba, LiAo Cao, Felix Mattelaer, Geert Rampelberg, Fatemeh SM Hashemi, Jolien Dendooven, J. Ruud van Ommen, Christophe Detavernier, and Marie-Francoise Reyniers. "Atomic layer deposition of Al2O3 using aluminum triisopropoxide (ATIP): a combined experimental and theoretical study." The Journal of Physical Chemistry C 123, no. 1 (2018): 485-494.

更新日期:2025.09



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